典奧推出C.WASH新微孔板樣品處理解決方案

1. 優異的清洗效果

液體殘留少（＜0.1μL），輕松提升信噪比，降低背景信號，因此可以提高實驗的穩定性和成功率。并且信噪比的顯著提升可以帶來整體實驗體積的縮小，減少試劑的使用量，降低實驗成本。

2. 更加科學的清洗方式

采用非接觸式注液，反向離心方式移除清洗，杜絕傳統Tip-based washer引起的交叉污染問題，也可避免傳統方法對板底細胞的損傷。

3. 高效、快速

C.WASH清除整個96、384和1536微孔板只需數秒時間 ，有效節省了時間，從而縮短整體項目周期。
 

C.WASH用戶界面

并且C.WASH軟件界面設計直觀，簡潔易用，用戶可以在系統自帶的程序中選擇不同的洗板模式來實現液體殘留的簡單控制，其自動化功能可顯著提升實驗效率。SiLA2接口的完善通信支持與API集成，而且與第三方控制軟件相兼容。

 

全自動進行基于磁珠的DNA純化

PCR產物的DNA純化是NGS文庫制備過程中的關鍵步驟，純化低濃度DNA樣品常用的方法是使用固相載體可逆化固定法（SPRI）。然而這個過程中磁珠清理經常是手動執行的，這在自動化工作流程中是一個需要突破的瓶頸。

磁珠的手動清洗繁瑣耗時，一次實驗需要消耗幾百個槍頭，清洗的效果在很大程度上還依賴于移液管的質量，這可能會導致樣品之間存在差異。

而C.WASH在關鍵洗滌步驟比傳統純化快5倍，同時不需要移液步驟，為基于磁珠的DNA純化提供了一個快速和自動化的工作流程，不僅可以簡化NGS庫準備工作流程，還能確保結果一致。

此外，C.WASH的殘余體積<0.1µL/孔，因此僅需一個清洗循環即可獲得與兩個手動清洗步驟效果相當的純化樣品，從而進一步縮短了處理時間。